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Waffen-SS Tarnfragment Aufdruck

Beschreibung
Fragment eines Tarnstoffs der Waffen-SS, der im Überdruckverfahren hergestellt wurde. Das Grundmuster ist das Eichenlaubmuster, das mit dem Platanenmuster überlagert ist. Diese Überdrucktechnik wurde verwendet, um einen mehrschichtigen Tarnungseffekt zu erzielen und findet sich auf Uniformen und Tarnunterkünften der Waffen-SS.


Es ist eine automatische Übersetzung. Zum Originaltext auf Englisch >>

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Beschreibung
Fragment eines Tarnstoffs der Waffen-SS, der im Überdruckverfahren hergestellt wurde. Das Grundmuster ist das Eichenlaubmuster, das mit dem Platanenmuster überlagert ist. Diese Überdrucktechnik wurde verwendet, um einen mehrschichtigen Tarnungseffekt zu erzielen und findet sich auf Uniformen und Tarnunterkünften der Waffen-SS.


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